解析真空镀膜设备的加热方式
真空镀膜设备的加热方式主要包括以下几种:
1、电阻式加热:
利用发热体通电后产生焦耳热来获得高温,熔融膜材料使其蒸发。这种加热方式结构简单,成本较低。
具体形式有丝状电阻源、舟状电阻源、坩埚加热器等。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
但其缺点是不适用于难熔金属和耐受高温的介质材料。
2、电子束加热:
通过电场加速电子,使其获得动能打到膜材上,使膜材料加热气化。
这种加热方式比电阻式加热热效率越高,可以直接加热到材料表面,提高膜的纯度。
具体形式还有磁偏转式电子束加热、空心热阴极等离子电子束加热等。
电子束加热适用于蒸发温度较高的材料,例如不低于2000℃。
3、感应式加热:
将装有膜材料的坩埚放在螺旋线圈的中间(不接触),再在线圈中通高频电流,膜材料在高频电磁感应下产生涡流出现升温,直至蒸发。
这种加热蒸发方式的特点是对膜材料的纯度要求相对较低,蒸发源温度稳定,蒸发速率大。
除了上述常见的加热方式外,真空镀膜设备还可能有其他的加热方法,例如:
电弧加热:被蒸发材料作阴极,耐受高温的钼杆作阳极,在高真空下通电时,在两电极间产生弧光放电,使阴极材料蒸发。
激光加热:用激光束作为热源,使被蒸发材料汽化。但由于大功率激光器的造价很高,目前主要在少数研究性实验室中使用。
在选择加热方式时,需要根据具体的镀膜材料、工艺要求、设备成本等因素进行综合考虑。同时,为了确保镀膜的质量和效率,还需要注意真空镀膜设备的操作和维护,确保加热系统的稳定性和牢靠性。
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